哈納HI96705微電腦二氧化硅(LR)濃度離子測定儀
舊型號:HI93705
二氧化硅在溶解礦物質(zhì)的天然水體中存在。但在工業(yè)應用中卻不希望有二氧化硅的存在,因為二氧化硅會引起結垢現(xiàn)象。
特別是高壓管道中更易受二氧化硅的影響。
加熱系統(tǒng)和反滲透工廠也有必要監(jiān)測二氧化硅。
性能特點
? 優(yōu)良的光學系統(tǒng)設計,人性化確認操作,保證儀器的良好校準;
? 雙行易讀LCD顯示屏,人性化顯示界面,操作簡單、快捷;
? 倒計時功能,試劑與樣品反應時間*性,確保測量精確度;
? 操作簡單,定期內(nèi)置標準曲線標定功能,確保儀器性能*;
? 出廠前內(nèi)置標準曲線標定,具有CAL CHECK 性能核查功能,
? GLP功能,隨時更新、查閱標定數(shù)據(jù)、日期、標準等信息;
? 高精度測量結果,光源防塵測量系統(tǒng),自動關機節(jié)電模式
? 優(yōu)良防水性能,適用于實驗室和現(xiàn)場快速樣品分析測量。
CAL CHECKTM 性能核查功能
儀器在使用一段時間后,儀器光學系統(tǒng)將會衰減,造成內(nèi)部設置的標準曲線會出現(xiàn)漂移,影響測量數(shù)據(jù)可靠性和準確性。
*CAL CHECKTM性能核查功能,二氧化硅NIST測量曲線標定組可定期(頻繁使用,1-3個月標定一次,常規(guī)情況下,半年標定一次)儀器內(nèi)部曲線進行標定和校正,修訂內(nèi)部標準曲線漂移,確保測量數(shù)據(jù)正確可靠。
二氧化硅NIST測量曲線標定組,保存和使用應在18 to 25°C(64.5 to 77°F)溫度范圍內(nèi),非Hanna 品牌二氧化硅NIST測量曲線標定組會造成內(nèi)置標準曲線嚴重漂移,甚至會損壞儀器。
哈納HI96705微電腦二氧化硅(LR)濃度離子測定儀 技術參數(shù)
測量范圍 | 0.00 to 2.00 mg/ L(ppm)SiO2 |
解 析 度 | 0.01 mg/ L(ppm) |
測量精度 | 讀數(shù)±3% ±0.03 mg/L @ 25°C |
測量方法 | 參照ASTM D859標準雜多藍方法 |
光學系統(tǒng) | 定制接收器暨光源系統(tǒng) |
電源模式 | 1 x 9V 電池,在測量模式下,10分鐘不用后自動關機 |
使用環(huán)境 | 0 to 50°C(32 to 122°F),RH max 95%,無冷凝 |
尺寸重量 | 主機尺寸:192 x 104 x 69 mm,主機重量:360g |
哈納HI96705微電腦二氧化硅(LR)濃度離子測定儀 標配&配件
HI96705 | 主機,HI93705-01 二氧化硅試劑,HI731333 定制玻璃比色皿(2個),HI731318 玻璃比色皿清潔布(2塊),中英文使用說明書,HI721006 定制儀器攜帶箱 |
HI96705C | 主機,HI93705-01 二氧化硅試劑,HI96705-11 二氧化硅NIST測量曲線標定組,HI731333 定制玻璃比色皿(2個),HI731318 玻璃比色皿清潔布(2塊),中英文使用說明書,HI721018 定制儀器攜帶箱 |